氧化鈰拋光液是以納米或微米級氧化鈰（CeO?）為磨料，結(jié)合分散劑、穩(wěn)定劑等配制的化學(xué)機械拋光材料。其核心優(yōu)勢在于高切削力、低劃傷風(fēng)險及優(yōu)異的化學(xué)滲透性，廣泛應(yīng)用于光學(xué)玻璃、半導(dǎo)體晶圓、精密陶瓷等領(lǐng)域的超精密拋光，可實現(xiàn)表面粗糙度Ra≤0.3nm的高質(zhì)量效果。
·基本信息
§外觀
§溶劑類型
水基：環(huán)保易清洗；
醇基：耐高溫，適用于精密電子元件。
§pH值
§定制：根據(jù)客戶需求調(diào)整粒徑、濃度及溶劑類型
· 特性
§高切削力與低劃傷
納米級氧化鈰（50-150nm）適用于光學(xué)鏡頭、半導(dǎo)體晶圓的超光滑拋光；
微米級氧化鈰（0.1-1.5μm）適合藍(lán)寶石、手機蓋板等硬質(zhì)材料的高效拋光。
§分散性與懸浮性
顆粒均勻分散，無團(tuán)聚（固含量20%-40%），長期存放不沉淀（保質(zhì)期6-12個月）；
添加專用分散劑（如Dispal）提升穩(wěn)定性。
§環(huán)保與安全性
無重金屬污染，符合ROHS法規(guī)；
抗腐蝕性強，適用于酸堿環(huán)境。
· 技術(shù)指標(biāo)
·應(yīng)用范圍
§精密光學(xué)
光學(xué)鏡頭、藍(lán)寶石濾光片、微晶玻璃基板的超光滑拋光；
解決鏡片腐蝕問題（如阿拉比、白點）。
§半導(dǎo)體與集成電路
硅片、氮化鎵、碳化硅晶圓的化學(xué)機械拋光（CMP）；
光掩模、銅布線層的精密處理。
§消費電子
手機蓋板玻璃、平板顯示面板的高光潔度拋光；
陶瓷保護(hù)片、金屬外殼的鏡面處理。
§工業(yè)與科研
藍(lán)寶石襯底、光纖連接器的精密加工；
精密儀器部件、航天陶瓷的表面優(yōu)化。
