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  氧化鋁拋光液主要由氧化鋁微粉、潤滑粘合基體和水組成，通過先進的制備工藝，保證了磨料的高質(zhì)量和均勻性，適用于多種材料的精密拋光。

         ·基本信息

§外觀：白色液體或乳液，部分納米級產(chǎn)品呈半透明。

§溶劑類型：水基（主流，環(huán)保易清洗）；醇基（低揮發(fā)，適用于精密電子元件）。

§pH值：中性（6-9）或弱堿性（8.5-12），根據(jù)配方調(diào)整。

§定制：可根據(jù)材料硬度（如不銹鋼、藍寶石）調(diào)整粒徑、濃度及pH值。

· 特性

§高硬度與切削力：

納米級氧化鋁（50-200nm）適用于精密光學、半導體材料的超光滑拋光；

微米級氧化鋁（0.05-1μm）適合金屬鏡面拋光，去除劃痕效率高。

§懸浮性與分散性：

顆粒均勻分散，不易團聚，長期存放不沉淀；

溶膠-凝膠技術(shù)提升穩(wěn)定性。

§環(huán)保與安全性：

無粉塵污染，符合環(huán)保標準；

可添加低金屬離子，避免電子器件污染。

·技術(shù)指標   

 ·應用范圍

   §金屬加工：

    不銹鋼、鋁合金、鈦合金鏡面拋光；

    黑色金屬（鐵、碳鋼）及低熔點合金（鎂、鉛）的精細處理。

   §光學與半導體：

    藍寶石襯底、紅外晶體、光纖連接器的精密拋光；

    硅片、氮化鎵、碳化硅晶圓的化學機械拋光（CMP）。

   §陶瓷與復合材料：氧化鋯陶瓷、碳化硅復合材料的表面處理。

   §電子與工業(yè)：

   電路板、電子元器件的去氧化層與劃痕修復；

   石材、玻璃制品的高光潔度加工。